descrizione dettagliata:

Sistema desktop di deposizione di strati atomicicausaHarvard University Center for NanoscienceChief Scientist of Thin Film Deposition Technology ResearchDr. Philippe de RouffignacSulla base di anni di ricca esperienza nella preparazione del film nano e nella comprensione delle esigenze pratiche di ricerca dei ricercatori, questo desktop, sistema di deposito atomico ad alte prestazioni dello strato è stato progettato e lanciato. Il primo dispositivo2015Anno inCNSDall'installazione, ci sono stati più1500Design facile da usare, design facile da usareoperareComodo.

informazioni sulle apparecchiature

Caratteristiche principali:
1. La camera è progettata specificamente perR&DProgettare e ottimizzare, dimensioni del campione fino al diametro4’’,Aggiornabile a 6 ''；
2. gamma controllabile della temperatura della camera di reazione:RT-350℃；
3. Intervallo controllabile della temperatura sorgente del precursore:RT-150℃；
4. Gamma controllabile della pressione di lavorazione della camera:0,1-1,5 torrName；
5. Fino a 5 estensioni sorgente;
6. funzione di elaborazione veloce del ciclo;
7. progettazione di ottimizzazione del percorso del gas e progettazione di miniaturizzazione della cavità;
8. Fino a un minuto6-10；
9. Ricette cinematografiche mature con programmi integrati;
10. controllo dello SpA del touch screen;
11. può essere utilizzato con un contenitore di guanti;
12. Può essere dotato di un generatore di ozono;

Materiali che possono essere lavorati:

MATERIAL CLASS	STANDARD RECIPES	RECIPES IN DEVELOPMENT	SYSTEM CAPABLE MATERIALS
Oxides (AxOy)	Al, Si, Ti, Zn, Zr, Hf	V, Y, Ru, In, Sn, Pt	Li, Be, Mg, Ca, Sc, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Ga, Sr Nb, Rh, Pd, Sn, Ba, La, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd
Elementals (A)	Ru, Pd, Pt, Ni, Co	Rh, Os, Ir	Fe, Cu, Mo
Nitrides (AxNy)	Zr, Hf, W	Ti, Ta	Cu, Ga, Nb, Mo, In
Sulfides (AxSy)			Ca, Ti, Mn, Cu, Zn, Sr, y, Cd, In, Sn, Sb, Ba, La, W
Other Compounds	AZO (AL:ZnO), AxSiyOz ()A=Al, Zr, Hf	YSZ (yttria stabilized sirconia) ITO	Many others